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黄扩:英伟达前7nm显卡性能提升50%,功耗仅为图灵的一半

 

来源:本文章来源于网络 | 时间:2020-07-28 06:48:03

it之家

1月3日消息英伟达的安培系列显卡将会采用7nm工艺,有望在2020年下半年发布。现在根据《台北时报》的最新报道,元大证券投资咨询有限公司的消息称英伟达的下一代基于安培架构的显卡与前代图灵显卡相比,性能提升了50%,而功耗却只有前者的一半。

▲英威达首席执行官黄仁勋

国外媒体tpu表示,安培显卡使用台积电的7nm工艺节点,因为架构改变和工艺更新带来50%左右的性能提升并非不可能,功耗也是合理的。nvida目前的图灵显卡是基于tsmc的12纳米finfet制造工艺,而其竞争对手amdnavi显卡已经提前一步采用了7纳米工艺。

最新消息显示,Nvidia可能会在今年8月举行的2020会议上推出安培图形卡,当时红色和绿色工厂为7nm,无论强弱。

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